超声波清洗机QDR清洁工艺特点
发布日期：2022-08-12 00:00 来源：http://jnusdesign.com 点击：
超声波清洗机QDR清洁工艺特点
一、喷淋清洗
上喷管有两条路，产生交叉喷雾，但去离子水不应直接喷水清洗晶圆表面，因为晶圆在水侵蚀下直接喷水晶表面，容易产生颗粒淤泥，污染晶圆表面，因此，在去离子水喷水环节中，需要调整清洗压力、水量、方向和视角，以达到较好的颗粒污染效果。良好的喷嘴喷涂类别包括所有晶圆和片盒；不良的喷涂清洗形状不覆盖所有晶圆和片盒，盲区区域、颗粒、杂质和化学物质仍然很高，不能达到良好的清洗效果。
二、鼓包冲浪清洗
同时，下喷管道继续从底部两侧进水，然后从内槽周围溢出，使每个晶圆缝和边缘的去离子水不断升级。同时，纯粹气体（氮气或空气压缩）自下喷淋管路进到槽体。鼓包有以下几个功效：
（1）增强了去离子水的冲刷力，对槽体自身有很好的自清洗功效；
(2)晶圆在流水中晃动，气泡不能附着在其上，提高了清洗效果；
（3）N去离子水中的氧含量降低，避免在晶圆表面产生氧化物。
三、超音波清洗
QDR增强了超音波作用选项，通过式喷淋清洗线与鼓包冲浪清洗更替功效，极大的提升了清洗效率，并有效降低DI水的使用量。典型的运用方法是：上喷淋+排出→上喷淋+下进水→超声+上喷淋+溢流→鼓包+上喷淋+溢流→快排出
四、快冲快排
喷淋灌满水时间和排水时间，对晶圆清洗品质有很大影响。因为暴露在空气中的晶圆表面会接触到空气中的氧原子或水蒸气，一层非常薄的氧化层(约0.5~1nm），这种天然氧化物的厚度与暴露在空气中的时间有关。因此，雾化超声波清洗线喷水时间越长，晶圆暴露在空气中的时间越长，形成的氧化层越厚，对晶圆清洗非常不利。QDR排水的时间越少，排水流速就会越大，有益于去离子水带去晶圆表面里的颗粒杂质。因而，在QDR在设计中，要尽量减少喷灌时间和排水时间，完成快冲快排，提高整体效率。超音波的QDR快排及注水时间指标为：注入时间：≤120秒，排出时间：≤12秒。
一、喷淋清洗
上喷管有两条路，产生交叉喷雾，但去离子水不应直接喷水清洗晶圆表面，因为晶圆在水侵蚀下直接喷水晶表面，容易产生颗粒淤泥，污染晶圆表面，因此，在去离子水喷水环节中，需要调整清洗压力、水量、方向和视角，以达到较好的颗粒污染效果。良好的喷嘴喷涂类别包括所有晶圆和片盒；不良的喷涂清洗形状不覆盖所有晶圆和片盒，盲区区域、颗粒、杂质和化学物质仍然很高，不能达到良好的清洗效果。
二、鼓包冲浪清洗
同时，下喷管道继续从底部两侧进水，然后从内槽周围溢出，使每个晶圆缝和边缘的去离子水不断升级。同时，纯粹气体（氮气或空气压缩）自下喷淋管路进到槽体。鼓包有以下几个功效：
（1）增强了去离子水的冲刷力，对槽体自身有很好的自清洗功效；
(2)晶圆在流水中晃动，气泡不能附着在其上，提高了清洗效果；
（3）N去离子水中的氧含量降低，避免在晶圆表面产生氧化物。
三、超音波清洗
QDR增强了超音波作用选项，通过式喷淋清洗线与鼓包冲浪清洗更替功效，极大的提升了清洗效率，并有效降低DI水的使用量。典型的运用方法是：上喷淋+排出→上喷淋+下进水→超声+上喷淋+溢流→鼓包+上喷淋+溢流→快排出
四、快冲快排
喷淋灌满水时间和排水时间，对晶圆清洗品质有很大影响。因为暴露在空气中的晶圆表面会接触到空气中的氧原子或水蒸气，一层非常薄的氧化层(约0.5~1nm），这种天然氧化物的厚度与暴露在空气中的时间有关。因此，雾化超声波清洗线喷水时间越长，晶圆暴露在空气中的时间越长，形成的氧化层越厚，对晶圆清洗非常不利。QDR排水的时间越少，排水流速就会越大，有益于去离子水带去晶圆表面里的颗粒杂质。因而，在QDR在设计中，要尽量减少喷灌时间和排水时间，完成快冲快排，提高整体效率。超音波的QDR快排及注水时间指标为：注入时间：≤120秒，排出时间：≤12秒。
