溶剂清洗是非常传统的的方式 ，其特点是清洗速度更快，高效率非常高，溶剂自身能够持续水蒸气蒸馏再造，循环系统应用；但弊端也较为显著，因为光学镜片的工作环境规定恒温恒湿设备，均为封闭式生产车间，溶剂的味道针对办公环境是多少都是有一些危害，尤其是应用不封闭式的全自动清洗机器设备时。
半水基清洗是近些年逐步发展壮大完善的一种新技术新工艺，它是在传统式溶剂清洗的根基上开展优化而获得的。它合理地防止了溶剂的一些缺点，能够 保证无毒性，味道轻度，废水可排进废水处理系统软件；机器设备上的配套设施设备更少；应用周期比溶剂要更长；在运作成本费上比溶剂更低。
它的缺陷便是清洗的效率比溶剂偏慢，而且一定要开展浸洗。
2.镀膜前清洗
镀膜前清洗的首要污染物质是求芯油（也称打磨油，求芯也称取芯.取芯，指通过式烘干线因为获得规范的直径及芯精密度而采用的工序）.指印.尘土等。因为U型通过式清洗线镀膜工序对眼镜片洁净度等级的需求极其严苛，因而清洗剂的选取是很重要的。
镀膜前的清洗一般也选用与碾磨后清洗同样的方法，分成溶剂清洗和半水基清洗等方法。生产流程及常用有机化学药物种类如前所述。
3.镀膜后清洗
一般包含涂墨前清洗.接合前清洗和安装前清洗，在其中接合前清洗（接合就是指将两块眼镜片用感光粘胶连接成要求的样子，1012超声波清洗机以达到没法一次生产加工成形的要求，或生产出比较特别的折射率.透光度的一道工序）规定为严苛。